技術前沿：PVD工藝——電子功能變色龍

真空鍍膜技術是氣相物理沉積的方法之一，也叫真空電鍍。是在真空條件下，用蒸發器加熱鍍膜材料使之升華，蒸發粒子流直接射向基體，在基體表面沉積形成固體薄膜。



真空鍍膜的應用廣泛，如真空鍍鋁，在塑料等基體上進行真空鍍，再經過不同顏色的染色處理，可以應用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產品制造中，裝飾效果十分出色。



真空鍍膜產品其膜面不僅亮度高，質感細膩逼真，同時制作成本較低，有利于環境保護，較少受到基材材質限制的優點，被越來越多的應用在化妝品外殼的表面處理。

一，真空鍍膜技術基本原理



真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。



但在實際輝光放電直流濺射系統中，自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持，這是因為在這種條件下沒有足夠的離化碰撞。因此在低于1.3～2.7Pa壓強下運行的濺射系統提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供，而不是靠陰極發射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。



事實上，真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，Z終沉積在基片上。



真空鍍膜就是以磁場束縛而延長電子的運動路徑，改變電子的運動方向，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片，真空室內壁及靶源陽極也是電子歸宿，因為一般基片與真空室及陽極在同一電勢。磁場與電場的交互作用(EXB drift)使單個電子軌跡呈三維螺旋狀，而不是僅僅在靶面圓周運動。





二，真空鍍膜技術的特點



鍍覆材料廣泛：可作為真空鍍蒸發材料有幾十種，包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣，加工出多層結構的復合膜，滿足對涂層各種不同性能的需求。



真空鍍膜技術可以實現不能通過電沉積方法形成鍍層的涂覆：如鋁、鈦、鋯等鍍層，甚至陶瓷和金剛石涂層，這是十分難能可貴的。



真空鍍膜性能優良：真空鍍膜厚度遠小于電鍍層，但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好，孔隙率低，而且無氫脆現象，相對電鍍加工而言可以節約大量金屬材料。



環境效益優異：真空鍍膜加工設備簡單、占地面積小、生產環境優雅潔凈，無污水排放，不會對環境和操作者造成危害。在注重環境保護和大力推行清潔生產的形勢下，真空鍍膜技術在許多方面可以取代電鍍加工。





三，真空鍍膜技術種類

1.真空蒸鍍法



真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空，然后加熱被蒸發的鍍料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到基片表面，凝結形成固體薄膜的技術。

（補充：真空蒸鍍是將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在工件或基材表面析出的過程。（真空蒸鍍中的金屬鍍層通常為鋁膜，但其他金屬如鉻也可通過蒸發沉淀；厚度在30um左右。））



是在真空室中加熱蒸發容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流入射到固體（稱為襯底或基片）表面凝結形成固態薄膜。






根據蒸發源的不同可以將真空蒸鍍分為電阻加熱蒸發源、電子束蒸發源、高頻感應蒸發源及激光束蒸發源蒸鍍法。






（1）電阻蒸發源是用低電壓大電流加熱燈絲和蒸發舟，利用電流的焦耳熱是鍍料熔化、蒸發或升華。這種方式結構簡單，造價低廉，使用相當普遍。采用真空蒸鍍法在純棉織物表面制備負載TiO2織物，紫外線透過率都比未負載的純棉織物的低，具有好的抗紫外線性能，制備TiO2薄膜時，膜層較均勻，當在玻璃表面蒸鍍一層鉻鈦、鎳鈦合金等裝飾薄膜，裝飾效果，光學、耐磨、耐蝕性能良好。



（2）電子束蒸發源利用燈絲發射的熱電子，經加速陽極加速，獲得動能轟擊處于陽極的蒸發材料，是蒸發材料加熱氣化，實現蒸發鍍膜。這種技術相對于蒸發鍍膜，可以制作高熔點和高純的薄膜，是高真空鍍鈦膜技術中是一種新穎的蒸鍍材料的熱源。



（3）高頻感應蒸發源是利用蒸發材料在高頻電磁場的感應下產生強大的渦流損失和磁滯損失，從而將鍍料金屬蒸發的蒸鍍技術。這種技術比電子束蒸發源蒸發速率更大，且蒸發源的溫度均勻穩定。



（4）激光束蒸發源蒸鍍技術是一種比較理想的薄膜制備方法，利用激光器發出高能量的激光束，經聚焦照射到鍍料上，使之受熱氣化。激光器可置于真空室外，避免了蒸發器對鍍材的污染，使膜層更純潔。同時聚焦后的激光束功率很高，可使鍍料達到極高的溫度，從而蒸發任何高熔點的材料，甚至可以使某些合金和化合物瞬時蒸發，從而獲得成分均勻的薄膜。



主要工藝流程：






真空蒸鍍有三層：底漆層（6~12um）+鍍膜層（1~2um）+面漆層（10um）



裝配前處理：

將基材表面雜質、灰塵等用布擦拭干凈。



真空蒸鍍法具有設備簡單，節約金屬原材料，沉積Ti金屬及其氧化物、合金鍍層等，表面附著均勻，生產周期短，對環境友好，可大規模生產等突出優點。



2.濺射鍍膜



濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶表面，使靶材的原子或分子從表面發射出來，進而在基片上沉積的技術。在濺射鍍鈦的實驗中，電子、離子或中性粒子均可作為轟擊靶的荷能粒子，而由于離子在電場下易于加速并獲得較大動能，所以一般是用Ar+作為轟擊粒子。



與傳統的蒸發鍍膜相比，濺射鍍膜可以在低溫、低損傷的條件下實現高速沉積、附著力較強、制取高熔點物質的薄膜，在大面積連續基板上可以制取均勻的膜層。濺射鍍膜被稱為可以在任何基板上沉積任何材料的薄膜技術，因此應用十分廣泛。



濺射鍍膜有很多種方式。按電極結構、電極相對位置以及濺射的過程，可以分為二極濺射、三極或四極濺射、磁控濺射、對向靶濺射、和ECR濺射。除此之外還根據制作各種薄膜的要求改進的濺射鍍膜技術。比較常用的有：



（1）在Ar中混入反應氣體如O2、N2、CH4、C2H2等，則可制得鈦的氧化物、氮化物、碳化物等化合物薄膜的反應濺射。



（2）在成膜的基板上施加直到500V的負電壓，使離子轟擊膜層的同時成膜，由此改善膜層致密性的偏壓濺射。



（3）在射頻電壓下，利用電子和離子運動特征的不同，在靶表面感應出負的直流脈沖，從而產生濺射的射頻濺射。這種技術Z早由1965年IBM公司研制，對絕緣體也可以濺射鍍膜。

　　

（4）為了在更高的真空范圍內提高濺射沉積速率，不是利用導入是氬氣，而是通過部分被濺射的原子(如Cu)自身變成離子，對靶產生濺射實現鍍膜的自濺射鍍膜技術。



（5）在高真空下，利用離子源發出的離子束對靶濺射，實現薄膜沉積的離子束濺射。



其中由二極濺射發展而來的磁控濺射技術，解決了二極濺射鍍膜速度比蒸鍍慢得多、等離子體的離化率低和基片的熱效應等明顯問題。磁控濺射是現在用于鈦膜材料的制備Z為普遍的一種真空等離子體技術，實現了在低溫、低損傷的條件下高速沉積。自2001年以來，廣大的科技研究者致力于這方面的研究，成果顯著。



在鋼材、鎳、鈾、金剛石表面鍍鈦金屬薄膜，大大提高了鋼材、鈾、金剛石等材料的耐腐蝕性能，使得使用領域更加廣泛;而鎂作為硬組織植入材料，在近年來投入臨床使用，當在鎂表面鍍制一層鈦金屬薄膜，不僅加強了材料的耐蝕性，而且鈦生物體相容性好，比重小、毒性低、更易為人體所接受;在云母、硅片、玻璃等材料上鍍上鈦金屬薄膜，研究其對電磁波的反射、吸收、透射作用，對于高效太陽能吸收、電磁輻射、噪音屏蔽吸收和凈化等領域具有重要意義。



除此之外，磁控濺射作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積(CVD)或金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)生長困難及不適用的鈦薄膜沉積，可以獲得大面積非常均勻的薄膜。包括歐姆接觸Ti金屬電極薄膜及可用于柵絕緣層或擴散勢壘層的TiN、TiO2等介質薄膜沉積。



在現代機械加工工業中，濺鍍包括Ti金屬、TiAl6V4合金、TiN、TiAlN、TiC、TiCN、TiAlOX、TiB2、等超硬材料，能有效的提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能，從而大幅度地提高涂層產品的使用壽命，應用越來越廣泛。



3.離子鍍



離子鍍Z早是由D.M.Mattox在1963年提出的。在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離化，在氣體離子或蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物質或其反應物蒸鍍在基片上。



離子鍍是將輝光放電、等離子技術與真空蒸發鍍膜技術相結合的一門新型鍍膜技術。它兼具真空蒸鍍和濺射鍍膜的優點，由于荷能粒子對基體表面的轟擊，可以使膜層附著力強，繞射性好，沉積速率高，對環境無污染等好處。



離子鍍的種類多種多樣，根據鍍料的氣化方式(電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、多弧加熱、高頻感應加熱等)、氣化分子或原子的離化和激發方式(輝光放電型、電子束型、熱電子型、等離子電子束型等)，以及不同的蒸發源與不同的電離方式、激發方式可以有很多種不同的組合方式。



總體來說比較常用的有：直流放電二極型、多陰極型、活性反應蒸鍍(ARE)、空心陰極放電離子鍍(HCD)、射頻放電離子鍍(RFIP)、增強的ARE型、低壓等離子型離子鍍(LP-PD)、電場蒸發、感應加熱離子鍍、多弧離子鍍、電弧放電型高真空離子鍍、離化團束鍍等。



由于離子鍍膜層具有非常優良的性能，所以越來越受到人們的重視，特別是離子鍍TiN、TiC在工具、模具的超硬鍍膜、裝飾鍍膜等領域的應用越來越廣泛，并將占據越來越重要的地位。



在鐘表行業，因為鈦無毒無污染，與人體皮膚接觸，不會引起過敏等不良反應，在表帶上沉積一層鈦膜還能起到表面裝飾的作用，可以做成金黃、黑色、灰色、紅棕色、橙色等很多種顏色，增加美觀效果。



在機加工刀具方面，鍍制的TiN、TiC以其硬度高、耐磨性好，不粘刀等特性，使得刀具的使用壽命可提高3～10倍，生產效率也大大提高。



在固體潤滑膜方面，Z新研制的多相納米復合膜TiN-MoS2/Ti及TiN-MoS2/WSe2，這類薄膜具有摩擦系數低，摩擦噪聲小，抗潮濕氧化能力較高，高低溫性能好，抗粉塵磨損能力較強及磨損壽命較長等特點，被廣泛運用于車輛零部件上。



與此同時，離子鍍鈦也在航空航天，光學器件等領域應用廣泛，收效顯著。



4.分子束外延



分子束外延(MBE)是一中很特殊的真空鍍膜工藝，是在10-8Pa的超高真空條件下，將薄膜的諸組分元素的分子束流，在嚴格的監控之下，直接噴射到襯底表面。



MBE的突出優點在于能生長極薄的單晶膜層，并且能精確地控制膜厚和組分與摻雜適于制作微波，光電和多層結構器件，從而為制作集成光學和超大規模集成電路提供了有力手段。利用反應分子束外延法制備TiO2薄膜時，不需要考慮中間的化學反應，又不受質量傳輸的影響，并且利用開閉擋板(快門)來實現對生長和中斷的瞬時控制，因此膜的組分和摻雜濃度可隨著源的變化而迅速調整。MBE的襯底溫度Z低，因此有減少自摻雜的優點。



5.化學氣相沉積



化學氣相沉積是一種化學生長方法，簡稱CVD(Chemical Vapor Deposition)技術。這種方法是把含有構成薄膜元素的一種或幾種化合物的單質氣體供給基片，利用加熱、等離子體、紫外光乃至激光等能源，借助氣相作用或在基片表面的化學反應(熱分解或化學合成)生成要求的薄膜。



真空鍍鈦的CVD法中Z常用的就是等離子體化學氣相沉積(PCVD)。利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電(或另加發熱體)使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的反應氣體，氣體經一系列化學反應和等離子體反應，在樣品表面形成固態薄膜。



在等離子化學氣相沉積法中，等離子體中電子溫度高達104K，電子與氣相分子的碰撞可以促進氣體分子的分解、化合、激發和電離過程，生成活性很高的各種化學基團，產生大量反應活性物種而使整個反應體系卻保持較低溫度。



而普通的CVD法沉積溫度高(一般為1100℃)，當在鋼材表面沉積氮化鈦薄膜時，由于溫度很高，致使膜層與基體間常有脆性相出現，致使刀具的切削壽命降低。利用直流等離子化學氣相沉積法，在硬質臺金上沉積TiN膜結構與性能均勻。








四，真空鍍膜的優缺點

1.優點



表面有較好的金屬質感且細膩。

顏色較水電鍍可解決七彩色的問題如魔幻藍、閃銀燈；水電鍍顏色較單調，一般只有亮銀、亞銀等少數幾種。

基材材質選用范圍廣，如PC、ABS、PMMA，（水鍍只能選擇ABS、ABS+PC）。

通過鍍銦錫可做成半透的效果，燈光可以從產品中發出來。

不污染環境。



2.缺點



蒸鍍靶材受熔點限制，太高熔點的不易采用。

真空蒸鍍不過UV油，其附著力較差，要保證真空蒸鍍的附著力，均需后續進行特殊的噴涂處理。





五，真空鍍膜涂料

1.底漆



目前除了PET等少數幾種塑料材料不需要表面涂裝外，大多數塑料尤其是塊狀工程塑料在真空鍍膜之前均需進行底涂預處理。底涂預處理是真空鍍膜前處理的一種，可有效提高鍍層的附著力、平整度等性能，如等離子處理改善了鍍層與基材的附著力。



底涂處于基材和真空鍍層之間，其作用主要有：



（1）通過底涂封閉基材，防止真空鍍膜時基材中的揮發性雜質逸出，影響鍍膜質量;



（2）塑料表面較粗糙，底涂預處理后，可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;



（3）在薄膜材料上預涂底漆可進一步加強薄膜的阻隔性;



（4）預涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層，展現出更高的反射效果和力學性能;



（5）某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差，通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;



（6）對某些耐熱性較差的塑料基材，底涂可以起到一定的熱緩沖作用，保護基材免遭熱致形變。



由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應當滿足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個方面：



（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應具備的Z基本性能;

　　

（2）應具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關鍵;

　　

（3）不應含有揮發性小分子，主要是指殘留單體、揮發性添加劑、揮發性雜質和高沸點溶劑等，其在真空升溫環境下會逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質量和性能;

　　

（4）應具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應，抗熱形變和熱分解性能應滿足真空鍍膜工藝的要求;

　　

（5）對于柔性基材，底涂應具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開裂，甚至崩脫。

　　

2.面漆

　　

真空鍍層通常較薄(不超過0.2 μm)，耐磨性等力學性能較差。面漆不僅起到保護鍍層的作用，還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學性能。面漆的主要性能要求包括：

　　

（1）對鍍層有較高的附著力，這是涂層起保護作用的基礎;

　　

（2）應具有足夠的耐磨性，以保護極薄的真空鍍層免受機械擦傷;

　　

（3）具有較高的阻隔性，即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性，阻止氧氣等對鍍膜有腐蝕性的物質直接接觸真空鍍層，保護鍍層免受腐蝕;

　　

（4）面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質;

　　

（5）對于需要突出光亮度的真空鍍膜場合，面漆也應保證有較高的透明性和表面光澤。

　　

某些真空鍍膜工藝無需面漆，如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時，其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強，因此對制品性能要求不高時，可不必涂裝面漆。





六，蒸發鍍膜穩定性與均勻性的控制

1、蒸鍍工藝方式的選擇



熱電阻蒸鍍與電子束蒸鍍是Z為常見的蒸發鍍膜方式，其中熱電阻蒸鍍的原理是通過電流加熱蒸發蒸發舟上的原料，而電子束蒸鍍的原理是通過電子束加熱蒸發水冷坩堝上的原料。



熱電阻蒸鍍的優點在于設備簡單、價格低、可靠性較高，對原料預熱充分，不容易導致化合物原料分解，其缺點在于能達到的溫度不高，加熱器使用壽命不長。



電子束蒸鍍的優點在于能達到的溫度更高，蒸發速度快，但缺點是難以有效控制電流，容易導致低熔點材料快速蒸發，且電子束能量多被水冷系統帶走，熱效率低，電子束轟擊還容易造成化合物原料的分解，坩堝存在污染原料的可能性，另外會產生對人體有害的X射線。



因此在具體的真空鍍膜生產工作中，我們可以根據以上分析來選擇適宜的蒸發鍍設備和工藝方式，例如MgF2的熔點只有1261℃，考慮到熔點低如選用電子束蒸鍍很難控制預蒸鍍時間和電流，容易蒸鍍不均勻且產生殘留原料，原料也易受坩堝的污染。因而更適合使用熱電阻蒸鍍的方式，可以調節電流來充分預蒸鍍，先消除原料中的雜質，避免直接蒸鍍原料受熱不均導致的噴濺，進而能夠保證蒸鍍的穩定性和均勻性。

　　

2、蒸鍍時間與溫度的控制

　　

蒸發鍍的實際工作經驗告訴我們，原料充足情況下鍍膜厚度與蒸鍍時間呈線性關系，這表明高真空情況下蒸鍍速率比較均勻。而基片的溫度，通常對鍍膜厚度影響不大，其原因在于高真空環境下分子間碰撞很小，蒸發分子遇基片表面迅速凝結。因此如MgF2原料的蒸鍍基片溫度通常保持60℃即可。

　　

3、原料狀態的影響

　　

不同的原料狀態可能會對蒸鍍過程造成較大的影響。實驗研究成果表明：

　　

在蒸鍍條件一致的前提下，粉末狀的原料狀態結構松散，原料內的水與空氣較多，實際蒸鍍前應充分溶解原料，原料質量損失相對較大，光照度較差;多晶顆粒的原料狀態由于生產過程已經除氣脫水，結構均勻致密，實際蒸鍍前原料質量損失相對較小，光照度較好。

　　

實際蒸鍍中我們發現，單晶原料蒸鍍的薄膜組成形式為大分子團，冷卻后形成大顆粒柱狀結構，薄膜結構疏松，耐磨性差，而多晶原料薄膜為小分子沉積，更適宜于用作蒸鍍原料。

　　

4、蒸發源與基片間距的影響

　　

蒸發源與基片間距會對薄膜均勻性等造成一定影響，根據實際鍍膜經驗，蒸發源與基片間距較小的情況下，薄膜厚度相對更大，均勻性也相對更好。因此在實際鍍膜生產中，我們需要考慮如何合理調整蒸發源與基片的間距，確保各區域的基片與蒸發源間距Z佳。

　　

綜上所述，不同方式的蒸鍍工藝，不同蒸鍍時間，不同原料狀態，以及蒸發源與基片間距，都會對蒸鍍質量帶來一定影響。因此需要在蒸鍍過程中選取Z為適合的原料和工藝方式。



PVD工藝——電子功能變色龍

PVD (Physical Vapor Deposition)技術是制備薄膜材料的主要技術之一，在真空條件下采用物理方法，將某種材料氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基板材料表面沉積具有增透、反射、保護導電、導磁、絕緣、防腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾等特殊功能的薄膜材料的技術。用于制備薄膜材料的物質被稱為PVD鍍膜材料。經過多年發展，PVD鍍膜技術被廣泛用于應用于電子、光學、機械、建筑、材料等領域，濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種PVD鍍膜方式。

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濺射鍍膜工藝概念

所謂濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子（如正離子）轟擊靶材，使靶材表面原子或原子團逸出，逸出的原子在工件的表面形成與靶材成分相同的薄膜，這種制備薄膜的方法稱為濺射鍍膜。目前，濺射法主要用于形成金屬或合金薄膜，特別是用于制作電子元件的電極和玻璃表面紅外線反射薄膜。另外，濺射還應用于制備功能薄膜，如液晶顯示裝置的In2O3 –SnO2透明導電陶瓷薄膜。



濺射鍍膜有兩種方式：一種稱為離子束濺射，指真空狀態下用離子束轟擊靶表面，使濺射出的粒子在基體表面成膜，該工藝較為昂貴，主要用于制取特殊的薄膜；另一種稱為陰極濺射，主要利用低壓氣體放電現象，使處于等離子狀態下的離子轟擊靶面，濺射出的粒子沉積在基體上。它采用平行板電極結構，膜料物質做成的大面積靶為陰極，支持基體的基板為陽極，安裝于鐘罩式真空容器內。為減少污染，先將鐘罩內的壓強抽到小于l0-3~ 10-4Pa，然后充入Ar，使壓強維持在l~10 Pa。在兩極之間加數千伏的電壓進行濺射鍍膜。

與蒸發鍍膜相比，濺射鍍膜時靶材（膜料）無相變，化合物成分穩定，合金不易分餾，因此適合制備的膜材非常廣泛。由于濺射沉積到基體上的粒子能量比蒸發時酌能量高50倍，它們對基體有清洗和升溫作用，所以形成的薄膜附著力大。特別是濺射鍍膜容易控制膜的成分，通過直接濺射或者反應濺射，可以制備大面積均勻的各種合金膜、化合物膜、多層膜和復合膜。濺射鍍膜易實現連續化、自動化作業和規?；a。但是，由于濺射時要使用高電壓和氣體，所以裝置比較復雜，薄膜易受濺射氣氛的影響，薄膜沉積速率也較低。此外，濺射鍍膜需要事先制備各種成分的靶，裝卸靶不太方便，靶的利用率不太高等。

濺射鍍膜工藝的應用領域廣泛



P V D真空離子鍍膜技術是在真空的環境中將鈦、鋯、鉻、金、石墨等金屬材料或非金屬材料在各種氣體的反應中利用濺射、蒸發或離子反應等技術，在基材上形成一種金屬薄膜的表面處理工藝，相對比PVD真空鍍膜有很多優點：該工藝對環境無污染，是綠色環保的工藝，對操作人員無傷害，金屬膜層硬度高，結合力非常牢固、致密性很好，抗腐蝕性強，而且膜層厚度非常均勻。

真空鍍膜的運作原理：物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。

在高真空并且高溫的爐內，加入不同的氣體，結合散發的離子就能形成不同的顏色，然后發生變化的離子沉積在產品的表層，形成致密膜層。如加入N2，鍍出來的顏色是金色；加入C?H? ，顏色就是黑色；加入O2，顏色就會是七彩和藍色；如加入N2和C?H? ，顏色就會是玫瑰金色等等，所以顏色是各種氣體與離子相互交叉產生的效果哦！

常見的PVD裝飾鍍膜主要有以下幾大色系：

1. N2 C?H?，玫瑰色（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而廣泛用于首飾設計和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。由于這種金屬曾經在19世紀初期風行于俄羅斯，因而又稱俄羅斯金（Russian gold），不過這一術語現在已經很少使用。

2. N2，金色，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據客戶的要求鍍不同的厚度。

3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，顏色與IP玫瑰金和IP金接近，但很難達到真金的亮度。

4. Ar，銀色，一般是鉻的化合物，顏色深淺可以調整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列帶藍調，金屬光感好，暖色系列帶黃調，接近不銹鋼本色。

5. 灰色系列 ，一般成份是鈦的化合物或鉻的化合物也可以是幾種靶材的混合物，顏色深淺可以調整，色調根據客戶的要求也可以調整。

6. C?H?，黑色，一般是成份是金屬的碳化物，顏色深淺可以調整，可亮可啞，色調根據客戶的要求也可以調整，不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調，可以根據客戶的需要選擇不同的膜系。

7. O2藍色，有天空藍，冰藍色，海洋藍，深藍等等，不同色系成份也有所不一樣。

8. 紫色，咖啡色，O2七彩等不常用顏色。

物理氣相沉淀（PVD）工藝
物理氣相沉淀（PVD）是眾多表面處理（金屬鍍膜）工藝中的其中一種，通過物理的方法在工件表面沉淀成一層薄膜的工藝，相對于電鍍來說，PVD屬于干法鍍膜技術，它不是在溶液中進行，而是在真空條件下，是采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。



PVD的整個流程可以簡化成如下:

物理氣相沉淀（PVD），由于這種方法基本都是處于真空環境下進行，因此也稱真空鍍膜技術。PVD按鍍料氣化的方式可分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜三大類，具體的細分見下圖。

PVD為什么要在真空環境下進行?

1、防止氣體“污染”，如：鍍金屬膜時可以防止氧化，

大氣中的各種氣體對鍍膜來說是屬于雜質氣體，如果不抽真空在鍍膜過程中會和膜材料發生反應影響膜材料的純度，進而影響膜材料的各種理化性能。
2、鍍的過程中不會受空氣分子碰撞，有較大的動量到達待鍍件表面

如果不抽真空，會導致分子自由程過短，對蒸發鍍而言，會影響膜材料到達基片的能量，造成附著力低；對濺射鍍而言，會影響離子的濺射能量進而影響膜材料到達基片的能量，而如果氣體太少，氣體分子不能成為離子，沒有很多可以轟擊靶材，所以也不行（對于蒸發鍍，真空度：P ≤ 10-3 Pa，保證蒸發，粒子具分子流特征，以直線運動；對于濺射鍍，充氬氣后真空度：10-2<P<10Pa，利于輝光放電）。



3、在真空的條件下，鍍膜材料的熔點較常壓下低

金屬或非金屬材料的蒸發與在大氣壓條件下相比容易得多在真空（負壓）狀態下，鍍膜材料的熔點較常壓下低，易于融化蒸發（對于蒸發類型的鍍膜），大大縮短蒸發時間，提高蒸發效率，以鋁為例，在大氣壓下，鋁要加熱到2400℃才能大量蒸發，但在1.3MPa的大氣壓強下，只要加熱到847℃就可以大量蒸發。
真空蒸發鍍膜

原理：真空蒸發鍍膜的原理極為簡單，可以簡單理解為，在真空室內通過加熱使材料靶材蒸發，形成蒸汽流，同時保證待鍍件較低的溫度，使得靶材在待鍍件表面凝固。



真空蒸發鍍膜的基本工藝流程：

鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表面處理→成品


圖：真空蒸發鍍膜主要工藝流程

真空蒸發鍍膜工藝的優點和缺點：

優點：設備簡單、容易操作；成膜的速率快（0.1-50um/min），效率高；制得薄膜純度高；膜厚可控性好；用掩?？梢垣@得清晰的圖形。
缺點：薄膜的厚度均勻性不易控制；靶材對于鍍件幾乎沒有沖擊，薄膜與基片（待鍍件）的集合不是十分緊密，附著力不高；此外其鍍膜速度較低，繞射性差（對基片的背面以及側面的沉積能力）；蒸發容器有污染的隱患，工藝重復性不好；此方法只適合制備低熔點材料薄膜。

  磁控濺射鍍膜

首先理解濺射現象：就像往平靜的湖水里投入石頭會濺起水花一樣，用高速離子轟擊固體表面使固體中近表面的原子或分子從固體表面逸出，這種現在稱為濺射現象。

真空濺射鍍膜工藝有分多種，其中磁控濺射鍍膜應用最廣，其原理基于高能離子轟擊靶材的濺射效應，整個濺射過程都是建立在輝光放電的基礎上，即濺射的離子都來源于氣體放電（通常把在電場作用下氣體被擊穿而導電的物理現象稱之為氣體放電），而放電的過程產生輝光，輝光的產生是因為大量的電子、原子碰撞導致原子中的核外電子受激躍到高能態，而后又衰變到基態并發射出光子，大量的光子就形成輝光。如下：



磁控濺射鍍膜的過程如下：

兩電極之間存在少量的游離的電子，在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子。
其中，Ar正離子因帶正電荷，在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射，在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。
而新的電子（二次電子）飛向基片，二次電子在加速飛向基片的過程中受到電場和磁場的作用，向產生E（電場）×B（磁場）所指的方向漂移，簡稱E×B漂移，其運動軌跡近似于一條擺線。若為環形磁場，則電子就以近似擺線形式在靶表面做圓周運動，它們的運動路徑不僅很長，而且被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，并且在該區域中電離出大量的Ar 離子來轟擊靶材，從而實現了高的沉積速率。隨著碰撞次數的增加，二次電子的能量消耗殆盡，逐漸遠離靶表面，并在電場E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低，傳遞給基片的能量很小，致使基片溫升較低。


圖：磁控濺射的原理

視頻：磁控濺射的原理

磁控濺射主要工藝流程：

l）基片清洗，主要是用異丙醇蒸汽清洗，隨后用乙醇、丙酮浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；
2）抽真空，真空須控制在2×104Pa以上，以保證薄膜的純度；

3）加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結合力，需要對基片進行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；

4）氬氣分壓，一般選擇在0.01~1Pa范圍內，以滿足輝光放電的氣壓條件；

5）預濺射，預濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質量；

6）濺射，氬氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達基片表面沉積成膜；

7）退火，薄膜與基片的熱膨脹系數有差異，結合力小，退火時薄膜與基片原子相互擴散可以有效提高粘著力。



圖：磁控濺射主要工藝流程

磁控濺射鍍膜與其他鍍膜工藝對比：

1、優點：工藝重復性好，薄膜純度高，可以在大面積的基片上獲得厚度均勻的薄膜，磁控濺射相比于蒸鍍，磁控濺射能精準控制膜層厚度，沉積薄膜的致密度有所加強，附著力好；不受靶材熔點的限制，對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現濺射，所以可以沉積金屬膜層，也可以沉積非金屬膜層、化合物膜層。
2、缺點：成膜速度較蒸鍍慢（0.01-0.5um/min），設備結構復雜，濺射靶材一旦穿透就會導致整塊靶材的報廢，所以靶材的利用率低，成本比蒸鍍高。
 真空離子鍍膜

真空離子鍍是一種結合了真空蒸發鍍膜技術和輝光放電等離子體技術的PVD技術。

真空離子鍍膜過程如下，分成兩步：

1、蒸發源接陽極，工件接陰極（這里跟磁控濺鍍相反），當通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發源與工件之間產生輝光放電。由于真空罩內充有惰性氬氣，在放電電場作用下部分氬氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區。帶正電荷的氬離子受陰極負高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。
2、隨后，接通蒸發源交流電源，蒸發料粒子熔化蒸發，進入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發料離子，在陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。


離子鍍的原理簡圖

視頻：磁控濺射的原理

離子鍍工藝綜合了蒸發（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，真空離子鍍膜與其他鍍膜工藝對比：

優點：
1）膜層的附著力強，不易脫落，這是離子鍍膜的重要特性；
2）繞射性好，可鍍基片的正反面甚至內孔、凹槽、狹縫等復雜結構；
3）鍍層質量好，鍍層致密，厚度均勻，針孔、氣泡少；
4）成膜速度快，可達50um/min，可鍍制厚達30um的鍍層，是制備厚膜的重要手段。
5）清洗過程簡化，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程，清洗效果極好。
缺點：由于電弧處的高溫以及離化粒子的撞擊，電弧離子鍍極易產生一些大顆粒，這嚴重影響鍍膜質量；鍍膜時基板的溫度會升高到攝氏幾百度，膜與基體間存在較寬的過渡界面；會有氣體分子吸附；上述的缺點使離子鍍的應用受到很大的限制。

三種鍍膜方式與薄膜性質的比較：



PVD的應用
PVD與水電鍍一樣，都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料表面，獲得一層或者多層具有裝飾的作用或具有一定功能(耐磨、耐蝕、耐熱、導電等)的膜層。


一、由于PVD與水電鍍在工藝上的不同，PVD與水電鍍對比，特點如下：
1、環保，真空鍍膜是在真空爐里進行，不會產生有毒或有污染的物質和氣體，對環境無不利影響；而水電鍍是在含鍍層金屬溶液里進行，會帶來嚴重的環境污染。

2、成本，水電鍍因工藝較簡單，從設備到環境的要求均沒有PVD苛刻，水電鍍在成本上有優勢。

3、鍍層性能，同樣的膜厚下，PVD鍍膜膜層與工件表面的附著力更大，可以折彎90度以上不發生裂化或者剝落，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；但通常情況下，水電鍍的膜厚比真空鍍的厚，水電鍍膜厚一般為15~20um，真空電鍍的膜厚一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此，為保證真空鍍膜的附著力，均需后續進行特殊的噴涂處理，比如過一層UV油。

4、膜層的種類與顏色， 水電鍍可以鍍的膜層的種類只有鍍金屬和合金，顏色較單調，常用一般只有亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻等幾種；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為廣泛（包括金屬和非金屬），可以鍍出的各種膜層的顏色也更多，甚至可以鍍閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花八門的顏色或七彩色；

5、材料適應范圍，對于塑膠材料，水電鍍通常只能對ABS塑膠和少量的ABS+PC塑膠材料上進行電鍍加工，具有一定的局限性，而真空電鍍工藝可以適用的塑膠材料范圍相當廣，除了ABS、ABS+PC塑膠之外，真空電鍍還可以在PC、PP、PMMA、PA、PS、PET等常見工程塑膠表面加工出金屬鍍膜效果，隨著技術的發展成熟，目前甚至可以在軟性塑膠表面進行真空鍍膜加工了，比如TPU、TPE、PVC軟膠、硅膠、橡膠制品等；

6、鍍層的單面性；PVD可以單獨對工件的外表面、或者單獨對工件的內表面進行真空鍍，另一表面可以保留塑膠原有的外觀和功能，水電鍍由于采用的是浸泡式的電鍍方式，工件的內外表面都被電鍍，如需局部不被電鍍，可以通過涂絕緣油或貼特殊的膠紙進行遮蓋。

7、鍍層的導電性，PVD可以精確控制鍍層厚度，可以進行導電和不導電真空電鍍（NCVM），而水電鍍的鍍層本身較厚，無法實現不導電。

8、鍍層的膜形差異



                傳統電鍍工藝示意圖                                      PVD鍍膜涂層工藝示意圖
一般濕式鍍層所制作之鍍膜會在表面覆蓋成一個薄膜層 ，不論底材之原先形狀為何，表面所呈現出來的薄膜層都會趨于平坦。PVD 鍍層會依底材形狀平均在上方形成一個鍍膜層，依底材高低形狀有所不同，經鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態樣。

二、PVD的應用

1、裝飾膜

主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤，同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要。
PVD裝飾鍍層顏色:

一般的金屬靶材在可見光的范圍內(380-780nm顯示出高的反射率，呈現銀白色，但有些有色金屬，例如，金和銅，在特定的波長范圍內具有選擇性的吸收，這樣就出現特殊的色彩。金在波長470nm附近的光線下，由于電子躍遷而產生選擇性的吸收，因而呈現出特有的金黃色。
在離子鍍膜中，常常用靶材加氣體(氮氣、氧氣、乙炔、甲烷、氬氣等)，形成金屬化合物的方法來調試各種顏色，甚至通過調整氣體比例、用量、濺射功率、濺射時間、基材處理溫度、濺射溫度、濺射時間等工藝參數，可以控制鍍出的顏色深淺變化；鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色進行測量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿足要求。
各種金屬化合物對于光譜的反射率曲線形式不一樣，如下圖有金、銀、鋁、鐵和TiN的反射率曲線，由圖可見，TiN的反射率曲線和黃金的較為相似，因而它們顏色與比較相近。黑色系列如TiC和CrC由于具有低的反射率,膜層吸收了大部波長的可見光,所以我們看上去是黑色的。


PVD鍍膜涂層常用置配：

鋯＋氮氣：黃綠調金黃色
鋯＋甲烷：深淺黑色

鋯＋氧氣：白色、透明膜

鋯＋氮氣＋甲烷：金色、仿玫瑰金

鉻＋甲烷：深淺黑色

鉻＋氮氣：淺黑色

鉻＋氮氣＋甲烷：銀灰色

鉻＋氧氣：輕黃色、紫色、綠色

SUS＋氧氣：紫色

SUS＋氮氣：藍色

SUS＋甲烷：亮黑色

SUS＋甲烷＋氮氣：藍黑色

硅＋氮氣：黑色

硅＋氧氣：混濁白、透明膜

硅＋甲烷：黃色、綠色、藍色、黑色(靶材純度高于99%僅能調黑色)

鈦＋氧氣：光學膜七彩色。

鈦＋甲烷：深淺黑色( DLC制備不能達標)

鈦＋氮氣：仿金色、黃銅色、紫色、紅色

鈦＋氮氣＋甲烷：仿玫瑰金、黑綠色、復古黃、棕色、紫色

鎢＋氮氣：棕黃色

鎢＋甲烷：深淺黑色

鎢＋氧氣：紫色，鮮黃色，棕色，藍色

以上僅裝飾薄膜常用材料及其常用氣體，通常甲烷和乙炔都可互替，但涉及部分顏色甲烷效果更好。除以上常用材料外，
金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等，均有在鍍膜中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、硅鋁、釩錸、鎢鉬等等。
另外在裝飾膜中我們還常常利用到光的另外一種特性：干涉性。如藍色，紫色,，都涉及到這方面的特性，當氧氣量達到一定程度后，膜層的顏色隨著膜層厚度變化而發生變化，大致如下表：



真空鍍膜可生產顏色種類常用的有：

1.金色  2.鋯金色  3.香檳金色  4.玫瑰金色  5.古銅色  6.紅銅色  7.咖啡色  8.鈦色  9.銀色  10.灰色  11.槍黑色  12.黑色  13.紫紅色  14.寶石藍色  15.翠綠色  16.彩虹色
2、功能膜

主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命；這方面主要應用在各種零部件（齒輪、軸承、曲軸、活塞等）、刀具（如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等）、模具（注塑模、沖壓模、壓鑄模等）等產品中，可以使壽命成倍提高，較好地實現了低成本、高收益的效果。

在生活中，我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經過鍍膜技術加工后的涂層工具。
3、光學膜

1）增透膜/減反膜（AR膜）：
增透膜/減反膜是利用薄膜反射光與基底反射光發生干涉來調節反射率從而影響透過率，當膜層為光波波長的四分之一時,兩組反射光發生干涉,從而相互抵消，達到減反效果，因為根據能量守恒，在吸收率基本不變的情況下透過率會增加，從而達到增透效果。
應用：在我們生活中會常常接觸到增透膜/減反膜，例如：攝像頭鏡片經常會鍍有增透膜來增強拍攝效果；電腦顯示器、手機屏幕經常會鍍有增透膜使圖像更清晰，還可以減少反光造成的晃眼、看不清等情況，大大降低用眼疲勞。

2）反射膜/截止膜：

反射膜/截止膜是通過設計調節膜層結構及厚度，使其對特定波段的光呈現高反的薄膜。
應用：目前我們生活也可以時常見到鍍有截止膜的產品，例如：防藍光手機屏就鍍有藍光截止膜，（藍光，是指波長在400~500納米的光線。藍光是一種可見光，藍光波短、能量高，能夠直接穿透晶狀體直達眼底視網膜上），手機屏或屏保護屏鍍上防藍光膜對藍光波段的光呈現高反效果，對其他可見光波段呈現較高透射效果。




3）顏色膜：

顏色膜是通過設計調節膜層結構及厚度，使其對不同波段的可見光呈現不同的反射率和透過率，從而調節其呈現出的顏色。
應用：在我們生活中會常常接觸到顏色膜，例如：某些產品的防偽標識鍍有顏色膜，利用不同角度入射光對應的相對膜厚不同的原理，使其防偽標識從不同角度看呈現不同顏色。
手機后蓋漸變色也是顏色膜的一種：



4、防水膜：

也叫抗指紋膜（AF膜）
原理：AF防污防指紋玻璃是根據荷葉原理，在玻璃外表面涂制一層納米化學材料，將玻璃表面張力降至最低，灰塵與玻璃表面接觸面積減少90%，使其具有較強的疏水、抗油污、抗指紋能力；使視屏玻璃面板長期保持著光潔亮麗的效果。
防水膜是在產品鍍一層具有抗油污和抗水性能的頂膜，使水、塵等臟污與產品的接觸面積變小呈110度角，與使其不易粘附于產品表面，所以其表面會更加光潔、爽滑，增加了防水、防霧、防塵、防指紋等防污染的功能。
防水膜已經廣泛用在我們生活中，例如，現在大部分的手機屏幕及其鋼化膜都鍍有防水膜，使其表面會更加光潔、爽滑、有手感，并增強其防水。

5、PVD在塑膠件上的應用

由于塑膠具有易成型、成本低、質量輕、耐腐蝕等特點，在現代工業中應用十分廣泛，但因其塑膠本身存在的一些缺點制約了塑膠的擴大應用。近些年伴隨著塑膠表面真空鍍膜技術的誕生和日趨成熟的應用，使塑膠部件在保留原有優質特性的同時具有了金屬的質感，將有機材料和無機材料結合起來，提高了它的物理、化學性能，大大提升了塑膠材料在現代工業方面的應用范圍。
塑膠真空鍍膜技術優點主要表現在以下幾個方面：
1．使塑膠表面具有金屬質感；因為相對于鋁、銅、鐵、不銹鋼等金屬部件來講，塑膠部件的制造工藝具有得天獨厚的大批量低成本易加工等優勢，經過表面真空鍍膜加工的塑膠部件在工業品的外觀方面已經或正在越來越廣泛的取代金屬部件，從而大大降低工業及消費電子類產品的制造成本，提升和鞏固了產品在同行業競爭中的價格優勢。
2．賦予塑膠產品導電性能；相對于單純的塑膠部件，真空鍍膜加工后的塑膠產品可以根據使用場合的需要賦予產品良好的導電性能，比如大多數電子消費品加工制造過程強調的電磁屏蔽性能（EMI）即可通過在塑膠件內壁進行導電性真空鍍膜加工的方式而獲得，在相同的功效下，相對于原來采用銅箔或鋁箔的制造工藝，真空鍍膜EMI工藝具有無可比擬的成本優勢。
3．可以進行不導電真空電鍍（NCVM）；對于工作過程中需要對外發射無線信號的電子消費品外觀裝飾件而言，需要塑膠件具有金屬光澤的同時，還要保證塑膠表面的金屬電鍍層不會屏蔽或者衰減設備的無線電信號（比如藍牙信號、射頻信號等），不導電真空鍍膜（NCVM）技術就應運而生了，這種真空鍍膜技術既保證了塑膠表面的金屬質感，又不會影響到設備對外的信號發射；相對于水電鍍的鍍層導電影響電子信號，不導電真空電鍍（NCVM）工藝為廣大的設計研發工程師提供了一種魚和熊掌兼得的完美選擇。
4． 可以進行單層電鍍；通俗的講，可以單獨對塑膠產品的外表面、或者單獨對塑膠產品的內表面進行真空電鍍加工，而另一表面可以保留塑膠原有的外觀和功能，這一點相對于浸泡式作業的水電鍍工藝而言又是一道無法跨越的坎。
5． 真空鍍顏色多樣化，真空電鍍因其工藝的便利性，可以在紅、黃、藍三基色的基礎上調整配方和比例從而形成千變萬化的電鍍顏色效果（比如粉色、紅色、綠色等），而水電鍍則只能制作光鉻、啞鉻、黑鉻、白鉻等寥寥可數的少數幾種顏色效果，與真空電鍍的顏色豐富程度不可同日而語。
6． 材料適應范圍廣；水電鍍通常只能對ABS塑膠和少量的ABS+PC塑膠材料上進行電鍍加工，具有一定的局限性，而真空電鍍工藝可以適用的塑膠材料范圍相當廣，除了ABS、ABS+PC塑膠之外，真空電鍍還可以在PC、PP、PMMA、PA、PS、PET等常見工程塑膠表面加工出金屬鍍膜效果，隨著技術的發展成熟，目前甚至可以在軟性塑膠表面進行真空鍍膜加工了，比如TPU、TPE、PVC軟膠、硅膠、橡膠制品等。
7． 可以進行半透明真空電鍍；針對現代消費電子類產品越來越新潮的外形設計，現在前端的電子產品的隱藏式顯示屏，即采用了半透明真空電鍍技術，其原理是，在LED顯示屏的外面配置一層經過半透明真空鍍加工的透明塑膠視窗，在設備未開啟的狀態下，其LED顯示面板是隱藏看不見的，當設備通電開啟后，顯示面板上的LED發光字體可以透過電鍍塑膠視窗被消費者或者用戶看到，從而大大提高產品的科技感和時尚感。
8． 環保無毒；真空電鍍技術是一種通過物理的方式將融化的金屬離子附著于塑膠產品的表面形成鍍膜層的工藝，整個加工過程無需添加任何化學品或化學制劑，是一種 無毒環保的加工工藝，隨著全球對綠色環保的重視力度加大，通過化學方式進行水電鍍加工工藝由于存在三價鉻、六價傷等非環保的原因已漸漸淡出高端電子消費品、食物相關用品、玩具品及相關行業了。
9． 優良的環境耐候性能；真空電鍍工藝可以賦予產品更加優良的耐極端使用環境的性能，比如耐高溫高濕、耐低溫、耐熱燙、高鹽份（耐鹽霧）、耐紫外線照射老化、耐化妝品、耐汗液、耐酸堿等性能；一般的噴油工藝或水電鍍工藝是無法滿足這些性能要求的。
塑膠件真空鍍層的結構：



1、在真空鍍膜前要先在塑膠基材表面進行底漆UV涂裝的主要原因：

1）增加鍍層與塑膠基材表面的附著力
底漆UV涂料中的活性稀釋劑對塑膠基材具有較強的侵蝕能力，活性稀釋劑將塑膠基材輕微溶脹或軟化，這樣涂料固化后在底漆UV與基材介面之間形成了互穿網絡，可以提高整個鍍膜層的附著力。
如果直接在塑膠基材表面進行真空鍍膜，而不做底漆UV噴涂的話，因金屬鍍膜層缺少對塑膠基材的侵蝕力，會導致鍍膜層與塑膠基材附著不良的現象。
2）封閉基材內的殘留物，確保鍍膜質量
通過UV涂層來封閉基材內的塑化劑殘留物、腐蝕性氣體殘留及脫模劑潤滑劑等油脂性分子殘留，防止真空鍍膜時或工件使用過程中基材中的這些揮發性雜質溢出，影響鍍膜質量。
基材中如有揮發性雜質釋放會使鍍鋁膜層發彩、變色、氧化、發黑等，影響真空電鍍的金屬質感和外觀效果。
3）提高基材表面平整度，確保鏡面鍍膜效果
一般來說，塑料表面本身具有0.51nm左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面反射效果。而底漆UV涂層的厚度一般達到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，涂裝UV底漆后可填平塑膠基材表面的缺陷并得到理想的真空鍍膜金屬光澤效果。
4）降低金屬鍍層和塑膠直接接觸的熱膨脹系數，減少膜層破裂的概率
塑料基材與真空鍍層通常為金屬)兩者熱膨脹系數相差很大，在真空鍍膜升溫、降溫過程中膜層容易破裂，膜層越厚，破裂的可能性越大，因此選用合適的涂層作為過渡層，可以減少內應力的積累和破裂的發生。
2、在真空鍍膜后再進行面漆UV涂裝的主要原因：

主要是為了增加塑膠表面的硬度，塑膠材料易成型的特性決定了其表面不具備良好的耐刮傷性能，真空鍍的鍍層一般較薄，真空鍍在鍍膜完成后，還在鍍膜層表面加罩了一層光固化UV涂料，大大提升了產品表面的硬度，提升了產品的耐刮花、耐劃傷、耐磨性能， 可以達到4H級別的硬度，遠遠超出水電鍍工藝的抗刮傷耐磨級別。
PVD用于汽車模具

隨著汽車行業的飛速發展及工藝水平的提高，尤其是高強度板在汽車鈑金上的廣泛應用，冷作模具易發生變形、磨損、疲勞和斷裂等失效形式，嚴重影響了模具的使用壽命。在汽車模具領域，表面處理技術主要是解決沖壓件的拉傷問題，以及提高模具使用壽命。單傳統的TD、電鍍、熔射由于受變形量、鍍膜次數以及鍍膜均勻性的限制已不能滿足高速發展的需要。

決此類問題，在沖壓領域引進了一種新型表面處理工藝——PVD。PVD(Physical VaporDeposition)——物理氣相沉積，是指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

 PVD技術工作原理 

PVD表面處理工藝的工作原理為：將要鍍膜處理的工件2置于真空容器1的電弧蒸發源3中，在高真空條件下，通過電弧蒸發源加熱使其蒸發，當蒸發分子的平均自由程大于真空室的線性尺寸以后，蒸汽的原子和分子從蒸發源表面溢出后，很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙，可直接到達工件基體表面上，遇有基體溫度較低，便凝結其上而成膜。


 PVD表面處理技術要求 

為了保證處理后的工件硬度和使用壽命，PVD處理技術對原材料有一定的要求。

(1)材質要求：高速鋼、預硬鋼、熱作模具鋼、工具鋼、冷作模具鋼。比如：T10A鋼、7SiCrMnMoV鋼、CrWMn鋼或Cr12Mo1V1等。

(2)熱處理要求：工具鋼、冷作模具鋼材經過三次500℃以上的高溫回火。

(3)尺寸要求：最大尺寸600mm×400mm×280 mm?？讖?孔深比或槽寬/槽深比應大于1。

(4)其他要求：模具上必須有可供上掛夾持用的孔、螺紋孔、臺階等，以供后續包綁、上掛用。

 具體實施方式 

(1)對鑲塊進行補焊及拋光處理，補焊后必須進行回火去應力處理。沖壓模具Ra＜0.5μm，而成形面需Ra＜0.2μm，便于提高PVD 處理后效果。

(2)脫脂處理。包含4個步驟：①去油；分三個超聲波清洗槽，每個槽里面的清洗劑含量逐漸降低，每個槽清洗時間為5～10min。②清水去污；分三個清水清洗槽，第一個槽清水噴淋，時間為3min，第二和第三個槽用超聲波清洗，時間均為3min。③去離子水清洗；分為三個槽，第一、第二槽為去離子水超聲槽，時間3min，第三個槽為去離子水浸泡清洗，時間3min。④脫水；用熱風吹8～10min，保證工件干燥。

(3)噴砂處理。所選噴料為銅礦砂、石英砂、金剛砂、鐵砂或海南砂中的一種。噴砂步驟能夠使工件表面或形狀發生變化，由于磨料對工件表面的沖擊和切削作用，使工件的表面獲得一定的清潔度和不同的粗糙度，使工件表面的機械性能得到改善，因此提高了工件的抗疲勞性，增加了它和涂層之間的附著力，延長了涂膜的耐久性，也有利于涂料的流平和裝飾。

(4)對鑲塊進行PVD處理。①氮化處理；將PVD 爐抽真空，通入液氨，加熱使氨氣蒸發對冷沖壓模具表面進行處理。②涂層沉積；具體選用TiN、CrN、TiCN、TiAlN或CrAlN中的一種，根據工件不同的要求，選用涂層種類。

(5)對PVD后的工件進行拋光，沖壓模具Ra＜0.5μm，而成形面需Ra＜0.2μm。

(6)對PVD后的工件進行檢測，結果如表1所示。



(7)復合涂層的相關技術指標的檢驗方法與標準如表2所示。



鑲塊通過PVD處理，表面光潔度得到很【返回列表】