聯系我們
0510-88276101真空鍍膜設備原理
發布時間:2022-01-11瀏覽次數:載入中...
在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。【返回列表】
相關新聞
- 真空鍍膜設備的正常工作條件和維修保養方法2021-05-12
- 光潤與您分享氣體放電2020-07-28
- 光潤真空與您分享真空鍍膜機的工作原理2019-06-13
- 實現柔性OLED的關鍵膜材料有哪些?2019-04-22
- 真空鍍膜機的一些常見問題與解決辦法2019-04-10